nanoPVD-S10A
RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
連続多層膜・2源同時成膜・APC自動圧力制御
◉ 到達圧力：5 x10-5 Pascal
◉ 最大3源 Φ2"マグネトロンカソード
◉ 自動多層連続膜、同時成膜も可能
◉ 直感的操作 多機能ソフトウエア 'Intellidep'
◉ Windows PC接続用リモートソフトウエア'IntelliLink'付属
高性能RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置。小型ながら一般的な金属膜から、絶縁物、化合物など、膜質に妥協を許されないハイパフォーマンスを追求されるユーザーにもご満足いただける装置です。最大3源カソード、多層連続膜、同時成膜（*RFとDCの組合せのみ）の用途にも対応。ヒーター、回転・昇降、磁性材料用カソード、キャパシタンスマノメータによる高精度圧力制御などのオプションも豊富です。
優れた基本性能
- 到達真空度 5x10-5 Pascal
- SUS304 高真空チャンバー
- 素早い真空到達（1x10-3Paまで約10分）
- 膜均一性：±3%（絶縁膜）、±5%（金属膜）
高機能システム
- 7"タッチパネル画面で全ての操作・成膜制御・データ管理を一元管理
- 自動連続多層成膜コントロール
- 同時成膜（*RF-DC, DC-DCの2源同時成膜）
- APC制御（PID自動圧力コントロール）
- PLC自動シーケンス（真空引き・ベント）運転
豊富なオプション
- 基板回転・上下昇降
- 基板加熱ヒーター 500℃
- MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタ
- 磁性材料用高強度マグネットオプション
- ファストベント（最短6分）
高精度Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源）
- DC, RF, パルスDC兼用
- ターゲット交換が容易
- 傾斜アングル式
プロセスガス系統 最大3系統：反応性スパッタにも対応
- 7"タッチパネルより圧力・流量などの設定を一元管理
- 標準Ar 1系統、N2用・O2用増設可能
- 高精度プロセス圧力制御オプション
制御ソフトウエア『Intellidep』
- 直感的操作
- 全ての設定を7"タッチパネルで一元管理
- USBでWindows PC接続、CSV・ログデータ出力
- 最大1000Layer, 1000process, 50レシピ作成登録
主仕様
| nanoPVD-S10A 標準構成 | nanoPVD-S10A-WA | |
|---|---|---|
| 基板サイズ | Φ2inch・Φ4inch | Φ6inch・Φ8inch |
| マグネトロンカソード | Φ2inch x 1源（標準） 2源増設可能 | |
| スパッタ電源 | DC850W, RF150W（自動マッチング付属） 又はDC, RF両電源搭載 |
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| プラズマリレーSw | 1：3（1電源入力→3カソード分配） 2：3（2電源入力→3カソード分配） |
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| 真空ポンプ | ターボ分子+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） | |
| 真空計 | WRGピラニーゲージ、キャパシタンスマノメータ（オプション） | |
| マスフローコントローラー | 1系統（Ar）+ 追加2系統（N2, O2） | |
| 基板回転・昇降 | 10段階回転速度可変・50mm昇降 | |
| 基板加熱 | Max500℃ランプ加熱 | |
| 水晶振動子膜厚モニター | 1基 + 追加1基増設可能 | |
| シャッター | ソースシャッター 基板シャッター | |
| 電源 | 200V 三相 10A 50/60Hz | |
| 冷却水 | 1rittoru/min 18-20℃ ＜400kpa（max） | |
| 圧縮空気 | 415〜4550kpa | |
| ベントガス | N2 35kpa | |
| 'IntelliLink' Windows PC用リモートソフト | 付属USBケーブルで装置に接続 ・システムライブモニタリング（運転状態モニター） ・エラー解析 ・レシピ作成・保存・アップロード ・データロギング・CSVフォーマット出力 |
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