超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃
Φ6inch、Φ8inchウエハーアニール装置
研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
⚫︎真空焼成
⚫︎大気圧・ガス置換焼成（不活性ガス、O2、還元ガス）
最高温度2000℃ Φ6〜8inch 2ゾーン制御
安全性・操作性を向上 Φ6〜8inchウエハー専用 超高温ウエハーアニール炉
新素材・材料開発、半導体・電子部品などの研究開発から、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。
様々な高温ウエハーアニールに対応
・ワイドギャップ半導体 結晶成長およびデバイス作製プロセス中での高温アニール
・窒化物半導体結晶 エピタキシャル成長プロセス中での高温アニール
・SiC、GaN（窒化ガリウム）パワー半導体高温アニール
・ニオブ酸リチウム薄膜（LN）
・チタン酸リチウム薄膜（LTO薄膜）などの次世代薄膜材料プロセス
・他各種先端材料基礎開発に応用
基本性能
最高使用温度：2000℃
加熱範囲：Φ6inch〜Φ8inchウエハー枚葉式
使用雰囲気：真空中、不活性ガス大気圧置換（又は圧力調整雰囲気）
ヒーター
- C/Cコンポジットヒーター（max 2000℃ 真空・不活性ガス）
- SiCコーティンググラファイトヒーター（max1500℃ 真空・不活性ガス・酸素）
- TaCコーティンググラファイトヒーター（max2000℃ 真空・不活性ガス・酸素）
- タングステンヒーター（max1600℃ 真空・不活性ガス・還元ガス）
シングルゾーン、又は2ゾーン制御（カスケード制御）
Cタイプ熱電対、又はK熱電対
制御
PLCセミオート運転（自動真空/パージ、ベントサイクル）
7inchタッチパネル操作
インターロック（蓋開閉部、チャンバー温度、冷却水断水）
炉内圧力制御
ガス流量PIDループ制御（アップストリームAPC制御）又は
自動開度調整バルブPIDループ制御（ダウンストリームAPC制御）
ガス供給系
フロートメーター手動調整 又は、
MFC（最大3系統）自動調整
寸法
1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm
*チャンバー部、制御ボックス部含まず
豊富なオプション
- るつぼ内温度測定用追加熱電対
- 高真空ポンプ（ターボ分子ポンプ）
- APC制御（上流側MFC流量PIDループ制御）
- APC制御（下流側開度調整バルブPIDループ制御）
- キャパシタンスマノメータ
- 基板回転ステージ
- バッチ式
- 通信機能（温調計機能使用）
電気炉制御ユニット
プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーター制御回路トリップSWなどを前面操作パネルにコンパクトに収納。
●温度調節計：PF900（理化工業）
●デジタル真空計：ワイドレンジ真空ゲージ
●タッチパネル：Siemens SIMATEC HMI（又は三菱）
| タッチパネル | 真空引き ベント チャンバーOpen/Close Gas In/Out |
|---|---|
| ヒーターSW | ヒーター制御回路ON/OFF |
| 真空計 | WRGデジタル真空計 炉内圧力表示 単位切替 電気炉インターロック設定値 |
| 温度調節計 | ヒーター温度制御 2ゾーン（カスケード制御 Master-Slave式） |
| プロセスガス流量調整 | MFC1〜MF3 マスフロー自動流量制御、又は フロートメーター/ベローズバルブ手動調整 |
| APCコントロール | 圧力設定値 PID操作 |
| グラフ表示 | 温度、圧力、流量 CSVデータ出力（Windows PC接続） |
| 使用雰囲気 | 真空中、不活性ガス（Ar, N2） 還元性ガス（H2, He等） |
装置主仕様
| C/Cコンポジット素線 | SiCコーティング素線 | TaCコーティング素線 | タングステン素線 | ||
|---|---|---|---|---|---|
| 最高使用温度 | 2000℃ | 1500℃ | 2000℃ | 1600℃ | |
| 使用雰囲気 | 真空中、不活性ガス | 真空中、不活性ガス/還元ガス/酸素 | 真空中、不活性/還元ガス | ||
| 焼成圧力 | 真空焼成、大気圧ガス置換焼成 | ||||
| 断熱材 | グラファイト、アルミナ、タングステン、モリブデン、ジルコニアなど（*プロセス条件により異なります） | ||||
| 真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット式 | ||||
| チャンバー開閉 | トップローディング、ダンパー付き手動開閉式（又はリニアドライブ駆動開閉式） | ||||
| 有効加熱範囲 | Φ6inch ～ Φ8inch | ||||
| 到達真空度 | 10-3 Pa台（* 但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合） | ||||
| 真空ポンプ | ロータリーポンプ、又はドライスクロールポンプ（ターボ分子ポンプ オプション） | ||||
| 真空計 | ワイドレンジ真空計（コンビネーションゲージ）大気圧〜10-9 mbar | ||||
| 熱電対 | C タイプ熱電対付属（又は、温度条件によりKタイプを付属） | ||||
| 追加熱電対 | 過昇温用、るつぼ内雰囲気測定用 | ||||
| インターロック | チャンバー過昇温、ヒーター過昇温、冷却水断水、チャンバー開閉、真空度 | ||||
| 用力・冷却水 | ヒーター定格 8KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 8ℓ/min 0.4Mpa | ||||
| 装置寸法 | 1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm | ||||
MiniLab-WCF-8" 2 zone heater
MiniLab-WCF-8" SiC coating tray
トップローディングチャンバー
DC電源